Inception? Halbleiter-Maschine zur Single-Wafer-Bearbeitung
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Ermöglicht den Übergang von F&E zur Kleinserie in der Halbleiterfertigung
Für Reinigungs-, Ätz-, Strip- und Trocknungsanwendungen
Die Halbleiterexperten von RENA Technologies NA haben ihr Portfolio an Nassbearbeitungslösungen um eine neue Maschine erweitert. Als anerkannter Spezialist für Batch-Tauch- und Spraytechnologie freut sich RENA, die Markteinführung der neuen Single-Wafer-Plattform für die Halbleiterbearbeitung namens ?Inception? bekanntzugeben.
Die Inception ermöglicht den Übergang von der F&E zur Kleinserienproduktion für alle Halbleiter-Nassprozesse wie Reinigen, Ätzen, Strippen und Trocknen.
Die erste Inception Single-Wafer-Maschine wurde bereits an einen großen Compound Semiconductor-Kunden geliefert, der sie für einen sauren Reinigungsprozess einsetzen wird.
Ed Jean, CEO von RENA Technologies NA, erläutert: ?Wer als Werkzeug nur einen Hammer hat, sieht in jedem Problem einen Nagel. Sowohl Batch-Maschinen für Tauch- und Sprayanwendungen als auch Single-Wafer-Maschinen haben ihre Berechtigung in der Nassbearbeitung. Die meisten Anbieter setzen jedoch auf eine ?Einheitslösung?, nämlich ihre spezielle Plattform, die sämtliche Anwendungen abdecken soll. Dagegen bietet RENA jetzt mit der Single-Wafer-Maschine die passende Plattform für alle Nassprozesse wie Reinigen, Ätzen oder Strippen.?
Heath Phillips, Spray Product Manager bei RENA Technologies NA, ergänzt: ?Die Inception Single-Wafer-Plattform ermöglicht unseren Kunden, die Tests in Bechergläsern und Schalen durchführen, die nötige Konsistenz, um einen protokollierbaren und automatisierten Prozess zu entwickeln.?
Merkmale der Inception Single-Wafer-Plattform:
Anwendung bei FEoL- & BEoL-Prozessen (Säure bzw. Lösungsmittel)
Automatische Wafer-Bedienung (manuelles Beladen optional)
Wafer bis zu 200 mm und Masken bis zu 7 x 7
Doppelte bewegliche Sprüharme mit separaten Chemikalienleitungen
Feststehende untere Sprühdüsen für DI und N2
Gleichmäßigkeit beim Ätzen, die Batch-Systemen überlegen ist
Standard-Doppeltankdesign ermöglicht Mehrschrittbearbeitung (4er-Tank optional)
Einzel- oder Doppel-Load-Ports
Geringer Strom- und Wasserverbrauch
Kleine Standmaße: 36" B x 83" H x 76" L
Hochflexible Software für eine schnelle Prozessentwicklung
"THE WET PROCESSING COMPANY" RENA Technologies ist ein weltweit führender Anbieter von Produktionsmaschinen für die nasschemische Oberflächenbehandlung. RENA-Produkte werden in zukunftsweisenden Anwendungsfeldern wie Halbleiter, MedTech, Erneuerbare Energien und der Glasindustrie eingesetzt. Mit RENA-Anlagen werden Oberflächen etwa von Halbleiterwafern, Solarzellen, optischen Substraten, Zahnimplantaten oder anderen HighTech-Produkten durch nasschemische Prozesse behandelt oder modifiziert. RENA bietet sowohl bewährte Standardmaschinen, als auch kundenspezifische Lösungen, Prozessunterstützung und chemische Performance-Additive.
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"THE WET PROCESSING COMPANY" RENA Technologies ist ein weltweit führender Anbieter von Produktionsmaschinen für die nasschemische Oberflächenbehandlung. RENA-Produkte werden in zukunftsweisenden Anwendungsfeldern wie Halbleiter, MedTech, Erneuerbare Energien und der Glasindustrie eingesetzt. Mit RENA-Anlagen werden Oberflächen etwa von Halbleiterwafern, Solarzellen, optischen Substraten, Zahnimplantaten oder anderen HighTech-Produkten durch nasschemische Prozesse behandelt oder modifiziert. RENA bietet sowohl bewährte Standardmaschinen, als auch kundenspezifische Lösungen, Prozessunterstützung und chemische Performance-Additive.
Datum: 19.06.2020 - 11:40 Uhr
Sprache: Deutsch
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