Carl Zeiss plant Investitionen von bis zu 500 Millionen in Deutschland
Carl Zeiss plant Investitionen von bis zu 500 Millionen in Deutschland
(pressrelations) -
- Halbleitertechnikwerk soll erweitert werden
- Standortlogistikzentrum in Oberkochen geplant
- moderne Räume für Forschung und Entwicklung in Jena
Carl Zeiss plant seine Standorte in Deutschland weiter auszubauen und will dafür in den nächsten Jahren bis zu 500 Millionen Euro investieren. Neben dem bereits angekündigten neuen Gebäudekomplex für den Unternehmensbereich Medizintechnik ist die Erweiterung der Büro- und Produktionsflächen des Unternehmensbereichs Halbleitertechnik sowie ein Standortlogistik- zentrum im Interkommunalen Gewerbegebiet zwischen Oberkochen und Königsbronn geplant.
"Insgesamt planen wir, bis zu 500 Millionen Euro in den nächsten Jahren in den Ausbau unserer Standorte in Deutschland zu investieren. Das stärkt die Standorte und damit auch die Regionen", sagte Dr. Michael Kaschke, Vor- standsvorsitzender der Carl Zeiss AG. "Wichtig wird sein, dass auch die kommunalen Rahmen- bedingungen dafür stimmen. Im Dialog mit der Politik und den Verwaltungen werden wir deshalb nach Wegen suchen, das Umfeld insgesamt attraktiver zu machen."
Voraussetzung für neue Technologie schaffen
Ein wesentlicher Teil der Investitionen ist für den Ausbau des Unternehmensbereichs Halbleiter- technik geplant. Hier soll in die Erweiterung von Büro- und Produktionsflächen aber auch in neue Produktionstechnologie investiert werden, um die Produktionskapazität für eine neue Technologie, die sogenannte Extreme-Ultra-Violett (EUV-)Lithografie, auszubauen. Diese Technologie ermöglicht in der Mikrochipfertigung Strukturen unterhalb von 20 Nanometern und damit noch kleinere und leistungsfähigere Mikrochips.
Carl Zeiss investierte in den vergangenen Jahren kontinuierlich in die Entwicklung der EUV-Techno- logie. "Mit den geplanten Investitionen in den Ausbau unseres Werks des Unternehmens- bereichs Halbleitertechnik bereiten wir uns auf die künftigen Marktanforderungen vor", sagte Dr. Hermann Gerlinger, der im Vorstand der Carl Zeiss AG für den Unternehmensbereich Halbleitertechnik zuständig ist. "Wir wollen bei dem Technologiewechsel hin zur EUV-Lithografie federführend sein und schaffen die Voraussetzun- gen dafür." Die ersten bauvorbereitenden Maß- nahmen für die Erweiterung des Werks des Unternehmensbereichs Halbleitertechnik sollen noch in diesem Jahr starten. Die Inbetriebnahme der neuen Räumlichkeiten für die EUV-Produktion ist für das Jahr 2013 geplant.
Logistik wird in neuem Gebäude gebündelt
Das neue Standortlogistikzentrum mit einer Fläche von zirka 11.000 Quadratmetern soll auf einem Grundstück in der Nähe des Halbleiter- technikwerks und des neuen Gebäudekomplexes für den Unternehmensbereich Medizintechnik errichtet werden. Hierfür wird Carl Zeiss die restlichen noch verfügbaren Flächen im Interkommunalen Gewerbegebiet erwerben.
In dem Zentrum sollen die bisher über den Standort verstreuten Logistikabteilungen gebündelt werden sowie die Logistikprozesse in einer zukunftsgerichteten Aufstellung gestaltet werden. Planungen für das Logistikzentrum gibt es bereits seit mehreren Jahren. Aufgrund der Wirtschaftskrise war das Bauvorhaben allerdings auf den Prüfstand gestellt worden. Der Vorstand der Carl Zeiss AG hat jetzt beschlossen, ange- sichts der positiven wirtschaftlichen Entwicklung des Unternehmens, die Planungen fortzusetzen.
Moderne Räume für Forschung und Entwicklung
Weitere Baumaßnahmen von Carl Zeiss laufen bereits: Im Hauptwerk des Unternehmens ent- steht eine neues Sozialgebäude, in dem unter anderem künftig das Betriebsrestaurant unter- gebracht wird. Am Standort Jena wurden neue Reinräume für den Unternehmensbereich Halbleitertechnik eingerichtet. Zudem entstehen hier derzeit neue Räume für die Forschungs- und Entwicklungsabteilung sowie zusätzliche Park- flächen. Neben den geplanten Investitionen in die Infrastruktur wird Carl Zeiss auch weiterhin vor allem in Innovation investieren.
Jörg Nitschke
Konzernkommunikation
Carl Zeiss AG
Tel.: +49 7364 20-3242
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E-Mail: j.nitschke(at)zeiss.de
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Datum: 22.07.2011 - 12:15 Uhr
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